Deutsche Physikalische Gesellschaft e. V. (DPG)

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E-Verhandlungen 1998
Fachverband Vakuumphysik und Vakuumtechnik


Hauptvorträge:

VA 1.1Mo 09:30H48
Anforderungen der Halbleiterfertigung an Vakuumpumpen
•P. Reimer, D. Smith
VA 2.1Mo 13:30H48
Das neue Primärnormal der PTB für Kalibrierungen von Vakuummeßgeräten zwischen 10-9 Pa und 10-2 Pa
•K. Jousten
VA 2.8Mo 16:10H48
Entgasungsprozesse bei der Weltraumsimulation
•H. E. Nuß
VA 4.1Di 10:30H48
Reaktives Doppelmagnetron-Sputtern zur großflächigen Herstellung optischer Schichtsysteme auf Glas und Folie
•J. Strümpfel, D. Schulze
VA 4.2Di 11:10H48
Vacuum Behaviour of Cathode Ray Tubes, UHV in Your Living Room
•J.-P. Jacobs, D. Dijkamp
VA 5.1Di 13:30H48
Technologie und Equipment zur Züchtung von Silizium-Einkristallen mit Durchmessern von 300 mm und mehr
•B. Altekrüger
VA 5.2Di 14:10H48
300 mm Wafer - The Challenge in Manufacturing Development for Future Semiconductor Processing
•P. Kücher, J. Rüstig
VA 5.3Di 14:50H48
Metallisierungskonzepte für innovative integrierte Schaltungen
•A. Klumpp, P. Ramm

Fach- und Postersitzungen:


VA 1Mo 09:30-11:30H48
Pumpen

VA 2Mo 13:30-16:50H48
Druckmessung, Ausgasung, Metrologie

VA 3Di 09:30-10:30H48
Große Vakuumsysteme

VA 4Di 10:30-12:30H48
Vakuumverfahrenstechnik 1

VA 5Di 13:30-15:30H48
Vakuumverfahrenstechnik 2

VA 6Di 15:30-16:10H48
Geschichte der Vakuumtechnik

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Zuletzt geändert am 05.08.1998

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